真空技術與應用

臺北科技大學 115-1 學期課程，課號 364686。

課程大綱

本課程擬建立學生對於半導體製程中真空技術等基礎認知，做為未來投入半導體產業時學習製程設備之知識基礎；本課程亦提供真空設備產業資訊與技術概況。 本課程包含半導體製程中真空技術及薄膜工程知識，真空技術內容包含真空原理、系統、量測與測漏；薄膜工程則是在真空技術基礎上，提供學生半導體薄膜製程與設備原理，內容涵蓋半導體元件製程常用之薄膜技術(PVD、CVD、ALD與磊晶)。 In this course, basic knowledges of vacuum technology and thin film engineering will be provided, and can be the foundation for learning semiconductor process equipment as students join the industry. Vacuum equipment and industry outlook will also be covered. Basics of vacuum principle, equipment and measurement/leak detection will be provided in the course. With the basics of vacuum technology, students will further explore the knowledge of thin film processes, such as PVD, CVD, ALD and epitaxy, especially for manufacturing semiconductor devices. The syllabus of course is outlined as follows.

課程進度

(b) 單元主題 1 真空概論 2 氣體分子動力論 3 氣流與氣導 4 真空下物理化學行為 5 真空幫浦 6 真空度量 7 真空材料、元件與封合真空測試與測漏 期中考 8 真空系統設計 9 物理鍍膜 10 化學鍍膜 11 原子層鍍膜 12 磊晶製程 13 蝕刻製程 14 真空分析設備 期末考

評量方式

期中考 30% 期末考 30% 小考及平常表現 40% Midterm exam 30% Final exam 30% Quiz and participation 40%

教材

【遵守智慧財產權觀念，請使用正版教科書，不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書：否 a.實用真空技術、ISBN：9789578464452、出版社：國興出版社(新竹黎明)、作者：呂登復. 出版日：1993/11/27。 b.真空技術與應用、ISBN：9789570286762、出版社：全華圖書、作者：國科會精密儀器發展中心、出版日期：2004/03/24。 c.Vacuum Technology、ISBN：0444860274、出版社：Elsevier Science Publishers B.V.、作者：Alexander Roth、出版日：1989/08。