x-射線繞射學

臺北科技大學 115-1 學期課程,課號 364441。

課程大綱

1.X光之本質 2.晶体幾何及倒置晶格 3.晶體立體投影 4.X光繞射原理 5.X光繞射實驗方法(繞射儀,Laue照相法,粉末法) 6.X光繞射之應用(包括晶體結構之鑑定,晶格常數之量測,相圖測定,序化一非序化轉換及化學成分分析等)

課程進度

第1週:Properties of X-ray 第2週:Geometry of crystals (1) 第3週:Geometry of crystals (2) 第4週:Laboratory (1) 第5週:Diffraction I: Geometry (1) 第6週:Diffraction I: Geometry (2) 第7週:Laboratory (2) 第8週:Diffraction II: intensities 第9週:Middle term exam. 第10週:Diffraction III: real samples 第11週:Diffractometer measurements (1) 第12週:Diffractometer measurements (2) 第13週:Laboratory (3) 第14週:Powder photographs 第15週:Phase identification by XRD 第16週:Final exam 第17週:Flexible Learning 第18週:Flexible Learning

評量方式

出缺席,學習態度等平時成績:15% 作業及小考:25% 彈性學習:10% 期中考:25% 期末考:25%

教材

【遵守智慧財產權觀念,請使用正版教科書,不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書:是 Cullity and Stock (2001) Elements of X-ray diffraction 3rd ed. Prentice Hall