電子顯微鏡
臺北科技大學 115-1 學期課程,課號 363953。
- 學期:115-1
- 授課教師:魏大華
- 學分:3
- 選修
- 上課時段:週二 5、6、7 節
課程大綱
本課程介紹電子顯微鏡之結構,成像及繞射原理,以及在材料科學方面之應用,課程內容包括電子顯微鏡之構造,電磁透鏡與成像原理,電子繞射原理,繞射圖型分析,試片之製作方法。掃描式電子顯微鏡之構造及成像原理。EDS及WDS之X光光譜測量。
課程進度
第一週 材料分析技術之介紹與總覽 第二週 光學金相分析:原理、構造、試片製備 第三週 晶體結構及對稱性介紹 第四週 電子束繞射原理 第五週 電子顯微鏡之結構,成像及繞射原理 第六週 掃描式電子顯微鏡:原理、構造、試片製備 第七週 掃描式電子顯微鏡:冷/熱場放射差異比較 第八週 掃描式電子顯微鏡:實例分析與應用 第九週 掃描式電子顯微鏡:實例分析與應用 第十週 能量分散方式(EDS)及波長分散方式(WDS)之光譜測量分析 第十一週 實例分析與應用 第十二週 電子探針微區分析儀:實例分析與應用 第十三週 縱深分析及半定量分析 第十四週 電子能譜解析 第十五週 各廠牌規格介紹與比較分析 第十六週 期末考試 第十七週 工業界相關應用與實例分析 第十八週 學術界相關應用與案例分析
評量方式
Case Review (10%) Final Exam (50%) Paper Review and Oral Report (40%)
教材
【遵守智慧財產權觀念,請使用正版教科書,不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書:是 “Scanning microscopy for nanotechnology : techniques andapplications”, Weilie Zhou and Zhong Lin Wang, New York : London : Beijing : Springer : Sciencep , 2007 “Scanning probe microscopy: characterization, nanofabrication and device application of functional materials”, Paula Maria Vilarinho, Yossi Rosenwaks and Angus Kingon, Dordrecht : Boston : Kluwer Academic Publishers , c2005. 材料分析Materials Analysis, 汪建民 主編,中國材料科學學會。