薄膜科學與工程

臺北科技大學 115-1 學期課程，課號 360777。

課程大綱

薄膜材料科學，真空科學與技術，薄膜蒸鍍製程，放電、電漿、離子與表面作用，物理氣相沈積，化學氣相沈積，基材表面與薄膜成核，薄膜結構，薄膜性質測試，薄膜之相互擴散、反應與轉換，薄膜之機械性質。

課程進度

第一週 真空技術介紹 第二週 真空元件原理、特性及選用 第三週 真空設備原理及組裝—物理氣相沈積：濺鍍機 第四週 真空設備原理及組裝—物理氣相沈積：蒸鍍機 第五週 真空設備原理及組裝—化學氣相沈積(CVD) 第六週　 真空薄膜沈積技術 第七週　 薄膜檢測技術—非破壞性檢測 第八週　 薄膜檢測技術—破壞性檢測 第九週　 薄膜科技在電子科技方面的應用 第十週　 薄膜科技在電子科技方面的未來展望 第十一週　薄膜科技在資訊科技方面的應用及未來展望 第十二週　薄膜科技在光電科技方面的應用及未來展望 第十三週　薄膜技術實例分析 第十四週　薄膜科技資料蒐集與趨勢分析 第十五週　薄膜科技文獻蒐集與未來展望 第十六週　期末考試奈 第十七週 奈米級薄膜積體電路之製程、電子電路組裝及封裝 第十八週 電子電路組裝及薄膜封裝

評量方式

Case Study (10%) Final Exam (40%, Close Book test) Oral and Paper Report of Thin Film Technology (50%)

教材

【遵守智慧財產權觀念，請使用正版教科書，不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書：否 自編講義(電子教材)